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JPTD 磁控鍍膜系列
作者：甘肅真空設(shè)備有限公司時(shí)間：2022-09-22點(diǎn)擊：2091次
※ 系列產(chǎn)品參數(shù)
型號(hào)項(xiàng)目 | JPTD-1000L | JPTD-1000LA | JPTD-1000LC |
| 極限真空度 Pa | 5.0×10-3（清潔、干燥、空載） | ||
| 恢復(fù)真空時(shí)間 Pa | 18（從大氣～10-2Pa） | ||
| 基材 | PET、PVC、PE等 | ||
| 有效鍍幅 mm | 500 | 650 | 800 |
| 最大卷徑 mm | Φ300 | ||
| 鍍膜速度 m/min | ITO靶0.5～1.5m/min 其它靶 5m/min(max) | ||
| 磁控靶數(shù)目 只 | 5 | 6 | 8 |
| 靶材 | 銦錫合金（黃銅、紫銅、鎳、鈦等選用） | ||
| 濺射壓力 Pa | 1～0.1 | ||
| 濺射電壓 V | 300～600（D.C） | ||
| 工作氣體 | Ar、 O2純度99.99% | ||
| 最大需用功率 KVA | 52 | 55 | 78 |
| 冷卻水量 t/h | 5 （入口壓力0.15～0.2MPa，進(jìn)水溫度25℃以下） | ||
| 占地面積 mm | 6850×5020×2600 | 7000×5020×2600 | 7250×5020×2600 |
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